Высокоскоростная 3D-реконструкция высокого разрешения: решение CIQTEK для объемной электронной микроскопии открывает новые возможности в биологической характеристике

Га + Сканирующий электронный микроскоп с автоэмиссией и фокусированным ионным пучком The Сканирующий электронный микроскоп с фокусированным ионным пучком (FIB-SEM) CIQTEK DB550 Оснащена колонной с фокусированным ионным пучком для наноанализа и подготовки образцов. Она использует технологию «супертуннельной» электронной оптики, низкую аберрацию и немагнитную конструкцию объектива, а также обладает функцией «низкое напряжение, высокое разрешение», обеспечивающей аналитические возможности в наномасштабе. Ионные колонки облегчают Ga + Источник ионов жидкого металла с высокостабильными и высококачественными ионными пучками, обеспечивающий возможности нанопроизводства. DB550 — это универсальная рабочая станция для наноанализа и производства нанокомпонентов со встроенным наноманипулятором, системой впрыска газа и удобным графическим интерфейсом.

Высокоскоростной Полностью автоматизированная полевая эмиссия Сканирующий электронный микроскоп Рабочая станция CIQTEK HEM6000 В оборудовании используются такие технологии, как сверхъяркая электронная пушка с большим током пучка, высокоскоростная система отклонения электронного пучка, высоковольтное торможение предметного столика, динамическая оптическая ось и иммерсионный электромагнитный и электростатический комбинированный объектив, позволяющие достигать высокоскоростного получения изображений, обеспечивая при этом разрешение в наномасштабе. Автоматизированный рабочий процесс предназначен для таких приложений, как более эффективный и интеллектуальный рабочий процесс получения изображений большой площади с высоким разрешением. Скорость получения изображений более чем в пять раз выше, чем у обычного сканирующего электронного микроскопа с полевой эмиссией (FESEM).

Сканирующая электронная микроскопия сверхвысокого разрешения с полевой эмиссией (FESEM) The CIQTEK SEM5000X представляет собой сверхвысокоразрешающий FESEM с оптимизированной конструкцией электронно-оптической колонны, снижающей общие аберрации на 30%, достигая сверхвысокого разрешения 0,6 нм при 15 кВ и 1,0 нм при 1 кВ. Его высокое разрешение и стабильность делают его выгодным в передовых исследованиях наноструктурных материалов, а также в разработке и производстве высокотехнологичных узловых полупроводниковых ИС-чипов.